株式会社FLOSFIA

ミストドライ成膜技術を基礎技術とした、成膜ソリューション事業とパワーデバイス事業の展開。ミスト（霧）を活用して薄膜を原子層レベルで積層していく独自技術「ミストドライ法」は、ナノメートルオーダーからミクロンオーダー程度までの結晶性膜を、大気圧プロセスで成膜可能とする。成膜プロセスのコストダウンや迅速性など、研究開発段階でも他社に対し優位性を持つ。また、電力変換用のパワー半導体として材料ポテンシャルを有する最先端半導体材料「コランダム構造酸化ガリウム (α-Ga2O3) 」を用いた半導体デバイスの事業化にも取り組む。