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事業概要
EUV (極紫外線) リソグラフィーを使用した、半導体製造業界向け計測機器ソリューション。
米国 カリフォルニア州 Martinez
1997年
約11-50名
Series A
調達額累計: Undisclosed
未上場
Active
Data partially provided byCrunchbase
※基本情報はCrunchbaseの最新情報を反映しています
サービス・製品概要
2023.04AIRES, etc.
・EUV (極紫外線) リソグラフィーを使用した、半導体製造業界向け計測機器ソリューション。
・同社は、最先端の半導体チップを効率よく製造するための様々な計測機器を手がける。
・同社は、最先端の半導体チップを効率よく製造するための様々な計測機器を手がける。
法人向け情報プラットフォーム
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サービス紹介
2023.04
法人向け情報プラットフォーム
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資金調達情報
2023.04法人向け情報プラットフォーム
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代表プロフィール
Patrick Naulleau
CEO
Rochester Institute of Technologyにて電子工学の学士号および修士号を取得。またUniversity of Michiganで博士号を取得している。1997年の卒業以降、ローレンスバークレー国立研究所 (LBNL) に所属しており、現在はCenter for X-Ray Opticsのディレクターを務める。2022年8月にEUV TechのCEOに就任。
資金調達情報
法人向け情報プラットフォーム
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類似企業
法人向け情報プラットフォーム
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ニュースリリース
2023.12.16
by insideHPC
2023.09.08
by Inside INdiana Business
2023.07.11
by Pulse 2.0
2023.07.08
by LevittownNow.com
2023.03.01
by FinSMES
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米国 カリフォルニア州 Martinez
1997年
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