logo
レポート一覧
極端紫外線リソグラフィーの世界市場
Extreme Ultraviolet Lithography Global Market
極端紫外線リソグラフィは、極小の波長を使用する極端紫外線リソグラフィ装置の製造に従事し、小さな特徴を持つ回路を作成し、より良い解像度の出力を得る。 本レポートでカバーする極端紫外線リソグラフィ市場は、装置別では光源、ミラー、マスク、その他、光源別ではレーザー生成プラズマ、ガス放電、真空スパーク、エンドユーザー別では集積デバイスメーカー(IDM)、ファウンドリー、その他に区分される。 なお、この市場の見通しは、世界的な貿易関係や関税の急激な変化によって影響を受けている。本レポートは、改訂された予測や定量化された影響分析を含む最新の状況を反映するため、納品前に更新される予定である。報告書の「提言」と「結論」のセクションは、目まぐるしく変化する国際環境に対応する事業体の戦略を示すために更新される予定である。 2025年春の米国関税の急上昇とそれに続く貿易摩擦は、半導体、ディスプレイパネル、レアアース金属(バッテリーやモーターに不可欠)が高率関税の対象となるなど、電気・電子部門に大きな影響を及ぼしている。消費者向け電子機器ブランドは、競争市場により購入者へのコスト転嫁が制限されるため、利益の減少に直面している。一方、産業用電子機器メーカーは、プリント基板など関税の影響を受ける部品の不足によるプロジェクトの遅れに悩まされている。企業は、関税免除国への組立の移転、在庫バッファーの増加、制限材料への依存度を減らすための製品設計の見直しなどで対応している。 極端紫外線リソグラフィの市場規模は、近年急激に拡大している。2024年の50億ドルから2025年には年平均成長率(CAGR)21%で60億ドルに成長する。歴史的期間の成長は、半導体デバイスの複雑化と小型化、半導体製造における高解像度と線幅縮小の需要、半導体製造技術への研究開発投資、半導体製造における先端ノードへの移行(例えば、7nm、5nm、3nm)、半導体工場における生産性と歩留まり向上の必要性などに起因している。) 極端紫外線リソグラフィの市場規模は、今後数年間で飛躍的な成長が見込まれる。2029年には年平均成長率(CAGR)24%で141億ドルに成長する。予測期間の成長は、メモリやロジックデバイス生産におけるeuvリソグラフィの採用、新興経済国や発展途上の半導体市場での市場成長、euv技術による大量生産への注力、半導体製造におけるAIや機械学習の統合などに起因する。予測期間の主なトレンドには、euvによるマルチパターニング技術、高開口数(na)euvシステム、先進euvマスク技術、マスク保護用euvペリクル、euv用計測・検査ソリューション、生産用高スループットeuvシステムなどがある。 今後5年間の成長率23.7%という予測は、この市場に関する前回の予測から0.5%の小幅な減少を反映している。この減少は主に、米国と他国との間の関税の影響によるものである。関税によってオランダやドイツからの極端紫外線(EUV)光源や精密光学部品へのアクセスが制限されるため、先端チップ製造のボトルネックを通じて米国に直接影響する可能性が高い。また、相互関税や、貿易緊張の高まりと制限による世界経済と貿易への悪影響により、その影響はより広範囲に及ぶだろう。 市場は以下のように区分できる: 装置別光源; ミラー; マスク; その他装置 光源別:光源別: レーザー生成プラズマ; ガス放電; 真空スパーク エンドユーザー別:集積デバイスメーカー(IDM)、ファウンドリー、その他エンドユーザー スマートフォン需要の増加が極端紫外線リソグラフィ市場の需要を押し上げると予想される。極端紫外線リソグラフィ(EUVL)は、スマートフォンやパソコン向けに、従来のものより高性能なマイクロプロセッサを製造するために使用される先端技術である。EUVリソグラフィは、複雑さを軽減し、コストを削減し、必要な電力を抑えたコンパクトな電子チップの製造に役立つ。例えば、2022年3月、英国を拠点とし、コンピューター、携帯電話、ゲームに携わる技術に熱心な人々の企業団体であるCybercrewの記事によると、2020年には成人の約87%がスマートフォンを所有し、世界のスマートフォン普及率は78.9%で、英国は第2位となっている。このように、より高度なスマートフォンに対する需要の増加は、チップメーカーがより高速で、より小さく、より強力なチップを製造できるようにするためのEUVリソグラフィに対するより高い需要を生み出している。 半導体産業の需要拡大は、極端紫外線リソグラフィ市場の今後の成長を促進すると予想される。半導体産業とは、集積回路やマイクロチップとしても知られる半導体デバイスの設計、開発、製造、流通に主に携わる経済セクターを指す。極端紫外線リソグラフィは、半導体産業において、より小さく、より強力で、エネルギー効率の高いチップの製造を可能にし、半導体の性能を向上させるために使用されている。例えば、2023年2月、米国の半導体業界企業であるSemiconductor Industry Associationが発表した報告書によると、2022年の世界半導体売上高の合計は5,741億ドルで、年間合計では過去最高となり、2021年の合計5,559億ドルに比べて3.3%増加した。従って、半導体産業の需要拡大が極端紫外線リソグラフィ市場の成長を牽引している。 極端紫外線リソグラフィ装置の価格が高いことが、極端紫外線リソグラフィ市場の成長を制限する可能性がある。リソグラフィ装置は、チップ製造における主要ツールのひとつである。最も高度なチップを切断するためのハイエンドのリソグラフィ装置は、ASML社1社のみが製造している。極端紫外線露光装置は100万個以上の部品でできており、約1億2000万ドルする。そのため、システムの高価格が極端紫外線リソグラフィ市場の成長を制限する可能性がある。 同市場で事業を展開する企業は、多くの消費者層を取り込むため、新技術の導入に継続的に注力している。例えば、台湾積体電路製造股份有限公司(TSMC)は、業界初の商用極端紫外線(EUV)リソグラフィ技術である7ナノメートル・プラス(N7+)を導入し、消費者向け製品を大量に市場に送り出している。EUV技術によるN7+方式は、TSMCの成功した7nmノードを基盤として構築され、6nmおよび高水準技術への道をカバーする。N7+は、N7プロセスよりも密度が15%から20%向上し、消費電力も増加するため、業界の次の波の成果にとってますます人気の高い選択肢となっている。 極端紫外線リソグラフィ市場で事業を展開する主要企業は、より小型で高性能なチップへの需要の高まりに対応するため、アイルランドのライクスリップでインテル4技術を使った大量生産を行うなど、技術生産拡大に注力している。インテルのインテル4テクノロジーによる大量生産は、同社にとって重要なマイルストーンである。インテル4プロセスは、極端紫外線(EUV)リソグラフィーを使用する7nmプロセスである。例えば、2023年9月、米国の半導体企業であるインテル・コーポレーションは、アイルランドのライクスリップでインテル4テクノロジーを用いた量産を開始すると発表した。この技術は、インテルが今後発売予定のインテル・コア・ウルトラ・プロセッサー(コードネーム:Meteor Lake)や将来世代のインテルXeonプロセッサーなど、幅広い将来製品を提供するのに役立つ。Meteor Lakeは、高性能コアと低消費電力コアを組み合わせたハイブリッド・アーキテクチャを採用するインテル初のコンシューマー向けプロセッサーとなる見込みだ。これにより、インテルは幅広いワークロードに対してさらに優れた性能と効率を提供できるようになる。 極端紫外線リソグラフィ市場に参入している主な企業には、ASMLホールディング、インテル コーポレーション、サムスン電子、台湾積体電路製造(TSMC)、株式会社ニコン、キヤノン株式会社、アプライド マテリアルズ株式会社、ラムリサーチ株式会社、KLA株式会社、東京エレクトロン株式会社、マイクロンテクノロジー株式会社、SKハイニックス株式会社、Intel Corporation、Samsung Electronics, Inc、SKハイニックス、IBMコーポレーション、ブロードコム、クアルコム、インフィニオン・テクノロジーズAG、ルネサス エレクトロニクス、アドバンスト・マイクロ・デバイス(AMD)、セミコンダクター・マニュファクチャリング・インターナショナル・コーポレーション(SMIC)、アイクストロンSE、ルドルフ・テクノロジーズ、オント・イノベーション、ウルトラテック、ヴィーコ・インスツルメンツ・インク(Veeco Instruments Inc. 2024年の極端紫外線リソグラフィ市場では、アジア太平洋地域が最大。北米は、予測期間中、電気・電子市場で2番目に大きい地域であった。極端紫外線リソグラフィ市場レポートの対象地域は、アジア太平洋、西欧、東欧、北米、南米、中東、アフリカ。 極端紫外線リソグラフィ市場レポートの対象国には、オーストラリア、ブラジル、中国、フランス、ドイツ、インド、インドネシア、日本、ロシア、韓国、英国、米国、イタリア、スペイン、カナダが含まれる。
BLITZ Portal会員特別価格あり
商品コード
afd351eb-cb00-45e5-87ca-6b8c59338535
ID
021778
注意事項・説明など
ご利用にあたっての注意事項などをこちらからご確認ください。
関連プロダクト
BLITZ Portal
メディア
運営会社プライバシーポリシーお問い合わせ
|
Copyright © 2026 Ishin Co., Ltd. All Rights Reserved.